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摘要:
介绍了集成电路引线框架镀层特点及其卷对卷式连续高速局部电镀银技术.分析了高速镀银工艺条件,并与传统氰化物镀银工艺进行了比较.简单介绍了局部电镀技术的原理及方法.
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文献信息
篇名 连续高速电镀技术在集成电路引线框架生产中的应用
来源期刊 电镀与涂饰 学科 工学
关键词 集成电路引线框架 连续高速镀银 点镀
年,卷(期) 2003,(6) 所属期刊栏目 经验介绍
研究方向 页码范围 48-51
页数 4页 分类号 TQ153.16
字数 3789字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-227X.2003.06.013
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作者信息
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研究主题发展历程
节点文献
集成电路引线框架
连续高速镀银
点镀
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电镀与涂饰
半月刊
1004-227X
44-1237/TS
大16开
广州市科学城科研路6号
46-155
1982
chi
出版文献量(篇)
5196
总下载数(次)
23
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