a-SiNxOy∶Er3+薄膜的光致发光

• 作者: 孔祥贵 宋宏伟 张家骅 许武 邓文渊 马少杰
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: Er 氮氧化硅 光致发光
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 381-386
• 页数: 6页
• 分类号: TN383
• 字数: 5043字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2003.04.010

摘要

采用射频(RF)反应共溅射法制备了a-SiOxNy∶Er3+薄膜,在不同温度下进行退火处理,并测量了样品的可见及红外发光PL谱,观察到Er3+在550nm、525nm和1532nm的发光以及基质在620nm和720nm的发光.发现退火能明显增强Er3+的发光且对可见和红外发光的影响不同,讨论了退火明显增强Er3+发光及退火对可见和红外发光影响不同的机理.测量了Er3+可见发光的变温PL谱,讨论了退火对Er3+不同能级辐射跃迁几率的影响.根据基质发光随退火温度的变化,分析了基质发光峰的起源.