光刻胶之关键技术

• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: 关键技术 加工程序 关键材料 感光成像 光刻胶
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 页码范围: 75-76
• 页数: 2页
• 分类号: TN405
• 语种: 中文

摘要

光刻胶长期以来即被广泛地运用在各类产业中.以电子工业及IC工业为例,由于光刻胶具备感光成像之特性,可将微细线路刻画于各种基板上,对于计算机电路板、液晶显示面板及集成电路器件等产品的微影光刻加工程序,是不可或缺的关键材料.近年来,在电子器件愈做愈小的趋势下,光刻胶的性能,包括