应用微波技术抑制光刻胶图形的坍塌与黏连

• 作者: 于明岩 徐昕伟 施云波 景玉鹏 赵士瑞 郭晓龙 陈宝钦
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束光刻 光刻胶图形 坍塌 黏连 高宽比 微波加热
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 维纳技术与精密机械
• 页码范围: 149-156
• 页数: 8页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 4173字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20152301.0149

摘要

针对显影工艺中水的表面张力导致的高高宽比抗蚀剂图形的坍塌及黏连,提出了一种基于微波加热的干燥技术来有效改善纳米抗蚀剂图形的干燥效果.该方法利用微波穿透光刻胶结构直接加热光刻胶图形间隙中残存的去离子水,水分子吸收微波的光子能量迅速蒸发,从而有效地抑制光刻胶图形的坍塌与黏连现象.利用提出的基于微波加热的干燥方法,成功获取了高260 nm、宽16 nm的光刻胶线条组和直径为20 nm的光刻胶柱形阵列,其中高高宽比线条组和由15 625根柱子组成的柱形阵列结构没有出现坍塌及黏连情况,验证了在微波产生的交变电场作用下,可以减小水分子团簇,降低水的表面张力.