准分子脉冲激光沉积法制备的ZrO2薄膜结构和电学性能的研究

• 作者: 万青 宋志棠 林成鲁 章宁琳 邢溯
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜物理学 ZrO2薄膜 脉冲激光沉积法 衬底温度 结晶结构 电学性能
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 345-348
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3070字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2003.04.013

摘要

采用准分子脉冲激光沉积法(PLD)分别在Pt/Ti/SiO2/Si和SiO2/Si衬底上制备了ZrO2薄膜,采用扩展电阻法(SRP)研究了薄膜纵向电阻分布;采用X射线衍射法(XRD)研究了衬底温度对ZrO2薄膜结晶性能的影响;精确测试了薄膜的表面粗糙度;讨论了薄膜结晶性能与其电学I-V特性之间的关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林成鲁	中国科学院上海微系统和信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室	44	595	15.0	23.0
2	宋志棠	中国科学院上海微系统和信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室	51	197	8.0	12.0
3	万青	中国科学院上海微系统和信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室	6	56	3.0	6.0
4	章宁琳	中国科学院上海微系统和信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室	6	59	3.0	6.0
5	邢溯	中国科学院上海微系统和信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室	1	11	1.0	1.0