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摘要:
对Ti/6H-SiC Schottky结的反向特性进行了测试和理论分析,提出了一种综合的包括SiC Schottky结主要反向漏电流产生机理的反向隧穿电流模型,该模型考虑了Schottky势垒不均匀性、Ti/SiC界面层电压降和镜像力对SiC Schottky结反向特性的影响,模拟结果和测量值的相符说明了以上所考虑因素是引起SiC Schottky结反向漏电流高于常规计算值的主要原因.分析结果表明在一般工作条件下SiC Schottky结的反向特性主要是由场发射和热电子场发射电流决定的.
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文献信息
篇名 SiC Schottky结反向特性的研究
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 SiC Schottky结 反向特性 隧穿电流
年,卷(期) 2003,(1) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 211-216
页数 6页 分类号 O4
字数 4815字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2003.01.039
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘忠立 中国科学院半导体研究所微电子研究与发展中心 77 412 12.0 14.0
2 王姝睿 中国科学院半导体研究所微电子研究与发展中心 7 52 5.0 7.0
3 尚也淳 中国科学院半导体研究所微电子研究与发展中心 3 21 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
SiC
Schottky结
反向特性
隧穿电流
研究起点
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期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
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