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4H-SiC浮动结JBS器件的设计方法
4H-SiC浮动结JBS器件的设计方法
作者:
孙腾飞
张玉明
汤晓燕
袁昊
谢思亮
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
4H-SiC
浮动结-结势垒肖特基二极管
外延结构
功率优值
摘要:
研究了4H-SiC浮动结(FJ)结势垒肖特基(JBS)二极管的设计方法.提出在上外延层厚度一定的情况下得到外延层最佳掺杂浓度,然后以器件的功率优值(BFOM值)为依据确定出最佳下外延层厚度,进而设计出浮动结和表面结的最佳结构参数.否定了文献中认为浮动结位于器件中部为最佳设计的结论.仿真结果表明浮动结和表面结线宽比不仅影响器件导通特性,还会影响反向特性.浮动结线宽比在一定范围内会略微影响器件击穿电压,而表面结线宽比主要影响器件的反向泄漏电流.
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功率器件
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4H-SiC
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相关学者/机构
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期刊文献
内容分析
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相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
4H-SiC浮动结JBS器件的设计方法
来源期刊
太赫兹科学与电子信息学报
学科
工学
关键词
4H-SiC
浮动结-结势垒肖特基二极管
外延结构
功率优值
年,卷(期)
2019,(4)
所属期刊栏目
微电子、微系统与物理电子学
研究方向
页码范围
721-725
页数
5页
分类号
TN311.7
字数
3227字
语种
中文
DOI
10.11805/TKYDA201904.0721
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张玉明
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室
126
777
15.0
20.0
2
汤晓燕
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室
24
144
7.0
11.0
3
孙腾飞
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室
1
0
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4
谢思亮
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室
1
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5
袁昊
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室
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引文网络
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共引文献
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节点文献
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参考文献(0)
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参考文献(0)
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参考文献(0)
二级参考文献(1)
2019(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
4H-SiC
浮动结-结势垒肖特基二极管
外延结构
功率优值
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
太赫兹科学与电子信息学报
主办单位:
中国工程物理研究院电子工程研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
2095-4980
CN:
51-1746/TN
开本:
大16开
出版地:
四川绵阳919信箱532分箱
邮发代号:
62-241
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
3051
总下载数(次)
7
总被引数(次)
11167
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