双离子束溅射制备SiNx薄膜的光致发光性质

• 作者: 吴雪梅 成珏飞 诸葛兰剑
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: SiNx薄膜 双离子束溅射 光致发光(PL)
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 51-54
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.55
• 字数: 2059字
• 语种: 中文

摘要

采用双离子束溅射法制备了SiNx薄膜,用XRD、XPS、FTIR等对薄膜的结构进行了表征,并且分析了样品的光致发光(PL)特性.发现在225 nm的紫外光激发下,样品在室温下可发射高强度的可见光,峰位分别位于470 nm、520 nm和620 nm,用能隙态模型讨论了可能的发光机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	成珏飞	苏州大学物理系	5	4	2.0	2.0
2	吴雪梅	苏州大学物理系	72	331	9.0	13.0
3	诸葛兰剑	苏州大学分析测试中心	59	199	8.0	11.0