纳米磨料对硅晶片的超精密抛光研究

• 作者: 范真 陈建清 陈志刚 陈杨
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米磨料 单晶硅片 抛光 表面形貌
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 332-335
• 页数: 4页
• 分类号: TG356.28
• 字数: 2638字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0595.2004.04.010

摘要

采用均相沉淀法制备了纳米CeO2和纳米Al2O3超细粉体,将所制备的超细粉体配制成抛光液并用于硅晶片化学机械抛光,考察了纳米磨料对硅晶片抛光效果及抛光机理的影响.结果表明,纳米CeO2磨料的抛光效果优于纳米Al2O3磨料,采用纳米CeO2磨料抛光硅晶片时可以得到在1 μm×1 μm范围内微观表面粗糙度Ra为0.089 nm的超光滑表面,且表面微观起伏较小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈志刚	江苏工业学院材料系	90	1299	21.0	30.0
2	范真	江苏大学机械学院	61	532	11.0	20.0
3	陈杨	江苏工业学院材料系	32	404	13.0	18.0
4	陈建清	河海大学材料系	28	219	8.0	14.0