Pyrex玻璃的湿法刻蚀研究

• 作者: 周健 闫桂珍
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 玻璃 湿法刻蚀 微机电系统(MEMS) Pyrex 7740
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 41-44
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1656字
• 语种: 中文

摘要

对Pyrex 7740玻璃的湿法刻蚀工艺进行了研究.实验中采用了几种不同的材料(光刻胶、Cr/Au、TiW/Au)作为刻蚀玻璃的掩膜,通过实验发现TiW/Au掩膜相对目前比较常用的Cr/Au掩膜有很多优点,如减少了玻璃的横向腐蚀,增加了深宽比,刻蚀图形边缘更加平滑等.还研究了腐蚀液成分配比对刻蚀结果的影响,发现刻蚀速率随HF浓度的增加而增加,且在HF浓度一定时,加入少量HNO3可以明显提高刻蚀速率.本文的实验结果对一些MEMS器件特别是微流体器件的制作有一定参考作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周健	北京大学微电子所	27	307	7.0	17.0
2	闫桂珍	北京大学微电子所	10	142	7.0	10.0