环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响

• 作者: 傅广生 孙运涛 张荣梅 彭英才 王英龙
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜物理学 Si纳米薄膜 脉冲激光烧蚀 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 698-700
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1305字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.06.014

摘要

薄膜表面粗糙度是表征薄膜质量的重要指标,为了探求环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响,采用XeCl脉冲准分子激光器,分别在惰性气体氦气和氩气的不同气压环境下烧蚀沉积了纳米Si薄膜,用Tencor Instruments Alpha-Step 200台阶仪对相应薄膜的表面粗糙度进行了测量.结果表明,薄膜表面粗糙度开始随着气压的增大而逐渐增加,在达到一最大值后便随着气压的增大而减小.由不同气体环境下的结果比较可以看出,充氩气所得Si薄膜表面粗糙度比充氦气的小,最大粗糙度强烈地依赖于气体种类.对于原子质量较大的氩气而言,其最大粗糙度仅比低气压时高出11%,而对于原子质量较小的氦气来说,其最大粗糙度比低气压时高出314%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
2	彭英才	河北大学电子信息工程学院	103	593	12.0	19.0
3	王英龙	河北大学物理科学与技术学院	96	301	9.0	12.0
4	孙运涛	河北大学物理科学与技术学院	6	42	4.0	6.0
5	张荣梅	河北大学物理科学与技术学院	5	17	2.0	4.0