沉积在硅油表面的铁薄膜

• 作者: 叶全林 郑增路 金进生
• 来源期刊: 浙江大学学报(工学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 液体基底 薄膜生长 有序结构 内应力
• 年，卷（期）: 2004,（8）
• 所属期刊栏目: 数理科学与化学
• 页码范围: 1067-1071
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3585字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-973X.2004.08.026

摘要

采用气相沉积的方法在硅油表面成功制备了一种新型的铁薄膜系统,并研究了该薄膜的生长机制及其带状有序结构.实验发现此类铁薄膜的生长机制与沉积在液体基底表面的其他非磁性薄膜的情况类似,即服从二阶段生长模型.沉积结束后,在连续的铁薄膜中,观察到了大尺度的带状有序结构.该有序结构是由一系列长度基本一致而宽度呈特征准周期分布的畴块相互连接而成的.实验表明,该有序结构是由近似自由支撑薄膜的内应力释放引起的局部物质凝聚所致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金进生	浙江大学物理系	18	114	6.0	10.0
2	叶全林	浙江大学物理系	6	34	2.0	5.0
3	郑增路	浙江大学物理系	1	0	0.0	0.0