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摘要:
非平衡磁控溅射沉积系统的伏安特性对阴极溅射和薄膜沉积过程具有重要的影响.通过分析在常规磁控溅射沉积系统中非平衡磁场对于放电过程的影响,根据蔡尔得定律研究了非平衡磁场对磁控溅射沉积系统伏安特性影响的基本规律;根据模型和实验数据的对比证明模型正确表达了非平衡磁控溅射沉积系统中非平衡磁场对伏安特性影响的规律.
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文献信息
篇名 非平衡磁控溅射沉积系统伏安特性模型研究
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 等离子体 金属薄膜/非磁性 磁控溅射
年,卷(期) 2004,(6) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 1994-1999
页数 6页 分类号 O4
字数 2829字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.06.070
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李国卿 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 58 411 12.0 16.0
2 牟宗信 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 38 217 10.0 12.0
3 黄开玉 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 7 53 4.0 7.0
4 柳翠 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 8 93 5.0 8.0
5 车德良 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 4 25 3.0 4.0
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磁控溅射
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