反应磁控溅射制备Ti-Si-N薄膜的摩擦磨损性能

• 作者: S.Veprek 徐可为 马大衍 马胜利
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ti-Si-N薄膜 反应磁控溅射 摩擦学
• 年，卷（期）: 2004,（8）
• 页码范围: 1308-1312
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 2748字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2004.08.009

摘要

用反应磁控溅射方法,在不锈钢表面沉积Ti-Si-N薄膜.用原子力显微镜观察薄膜的表面形貌,Ti-Si-N颗粒尺寸小于0.1 μm,用亚微压入仪测试薄膜硬度,当硅的摩尔分数为9.6%时,薄膜硬度出现最大值47 GPa.球-盘式摩擦磨损结果表明,Ti-Si-N薄膜的耐磨性能明显优于TiN薄膜,加入少量硅元素后,TiN薄膜的抗磨损性能有显著提高,但Ti-Si-N薄膜的室温摩擦系数较高(0.6～0.8),高温下摩擦系数也仅轻微降低(550℃,0.5～0.6).由于Ti-Si-N薄膜的摩擦系数可能与磨损中氧化物生成量的增加有关,常温下Ti-Si-N薄膜的摩擦系数随硅摩尔分数的增加而增大,而高温下Ti-Si-N薄膜的摩擦系数随硅含量上升而降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐可为	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	238	3333	30.0	44.0
2	马胜利	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	51	461	12.0	18.0
3	马大衍	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	26	168	8.0	12.0