C/W多层膜的制备及其光学特性

• 作者: 吴文娟 张众 张淑敏 王占山 王洪昌 王风丽 秦树基 陈玲燕
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 多层膜 X射线衍射仪 透射电镜 同步辐射
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 385-387
• 页数: 3页
• 分类号: O43|TB7
• 字数: 1679字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.05.016

摘要

介绍了软X射线波段C/W多层膜的制备和光学性能检测.采用高真空直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上制作了C/W多层膜,用X射线衍射(XRD)仪,小角测量方法测试多层膜的光学性能,采用透射电镜(TEM)观测多层膜断层样品的微观结构,并在同步辐射软X射线光束线上,测试了所制备的C/W多层膜样品的反射率,然后对测试结果进行拟合分析.结果表明,所制备的C/W多层膜样品的质量较高,界面清晰,粗糙度小,所有膜层均为无定形态,没有晶相生成,以44.2°入射在5.9 nm处有约6%的反射率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王占山	同济大学精密光学工程技术研究所	92	640	14.0	19.0
2	王风丽	同济大学精密光学工程技术研究所	27	135	7.0	9.0
3	张众	同济大学精密光学工程技术研究所	25	122	7.0	10.0
4	秦树基	同济大学精密光学工程技术研究所	24	190	9.0	12.0
5	吴文娟	同济大学精密光学工程技术研究所	44	167	8.0	10.0
6	王洪昌	同济大学精密光学工程技术研究所	14	122	7.0	10.0
7	张淑敏	同济大学精密光学工程技术研究所	2	18	2.0	2.0