纳米压印光刻技术及其设备研制

• 作者: 司卫华 董晓文 顾文琪
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: 纳米压印 纳米结构 热压印 模版
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 微纳加工与测试及封装技术
• 页码范围: 398-400
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.z1.142

摘要

介绍了热压印技术的工艺流程、设备研制等,从成本、生产能力等方面探讨了其作为标准生产技术所面临的挑战.介绍了使用具有100nm特征尺寸的5cm×5cm面积Cr模版在PMMA胶上的压印实验结果和试验装置.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾文琪	中国科学院电工研究所	53	189	8.0	11.0
5	董晓文	中国科学院电工研究所	10	46	4.0	6.0
9	司卫华	中国科学院电工研究所	9	46	4.0	6.0