磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及应用进展

• 作者: 郑华均 黄建国
• 来源期刊: 浙江化工
• 学科: 工学
• 关键词: 碳化钨 磁控溅射法 催化剂
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 技术进展
• 页码范围: 33-36
• 页数: 4页
• 分类号: TQ13
• 字数: 3662字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4184.2005.01.020

摘要

综述了国内外磁控溅射法制备碳化钨薄膜技术的研究动态.文章认为,磁控溅射碳化钨薄膜今后研究的方向将集中在低温、超硬膜、耐蚀膜、催化性膜等方面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑华均	浙江工业大学化材学院	32	252	10.0	15.0
2	黄建国	浙江工业大学化材学院	7	48	4.0	6.0