纳米Mo膜的光学特性及最小连续膜厚研究

• 作者: 易葵 范平 范正修 邵建达 齐红基
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 光学特性 尺寸效应 纳米Mo膜 最小连续膜厚
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 977-981
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3780字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2005.07.024

摘要

利用Lambda-900分光光度计,在波长为310～1250 nm范围内测量了离子束溅射沉积不同厚度纳米Mo膜的反射率和透射率.选定波长为310 nm,350 nm,400 nm,500 nm,550 nm,632 nm,800 nm,1200 nm时对薄膜的反射率、透射率和吸收率随膜厚变化的关系进行了讨论.实验结果显示,纳米Mo膜的光学特性有明显的尺寸效应.提出将薄膜对光波长为550 nm时的反射率和透射率随Mo膜厚度变化关系的交点对应的厚度作为特征厚度,该厚度可认为是纳米Mo膜生长从不连续膜进入连续膜的最小连续膜厚.利用原子力显微镜(AFM)观测膜厚在15.76 nm时的表面形貌,此时表面形貌已呈现连续膜的特征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心	67	518	14.0	18.0
3	齐红基	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心	40	299	11.0	16.0
7	范平	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心	14	136	8.0	11.0