氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响

• 作者: 巴德纯 汪保卫 沈辉 王贺权 闻立时
• 来源期刊: 中山大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 二氧化钛薄膜 直流反应磁控溅射 氧流量 反射率
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 页码范围: 36-40
• 页数: 5页
• 分类号: O614.41+1
• 字数: 2820字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0529-6579.2005.06.010

摘要

应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在工作压强为2.0×10-1 Pa,氩气流量为42.6 sccm,溅射时间为30 min的条件下,通过控制氧流量改变TiO2薄膜的光学性质.应用n&k Analyzer 1200分析器测量,当氧流量增加时薄膜的平均反射率降低,同时反射低谷向中心波长(550 nm)处移动,薄膜的消光系数k有增大的趋势,但对薄膜的折射率影响不大.通过XRD和SEM表征发现,随着氧流量的增加金红石相的TiO2增多,并且表面趋于致密平滑.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯	东北大学机械及自动化学院	250	1491	18.0	22.0
2	沈辉	中山大学物理科学与工程技术学院	121	1808	24.0	37.0
3	闻立时	中山大学物理科学与工程技术学院	9	236	8.0	9.0
4	王贺权	沈阳航空工业学院机械与汽车学院	14	52	3.0	7.0
10	汪保卫	中国科学院广州能源研究所	7	110	7.0	7.0