应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值

• 作者: 张东平 张大伟 范树海 范正修 赵元安 邵建达 黄建兵
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光损伤阈值 薄膜 离子后处理 微缺陷
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 213-216
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2821字
• 语种: 中文

摘要

利用电子束热蒸发方法在K9玻璃基底上沉积氧化锆薄膜,并对其中一些样品用低能O2+进行了后处理.采用表面热透镜技术测量薄膜样品表面弱吸收,采用显微镜观察样品离子后处理前后的显微缺陷密度.测试结果表明:经离子后处理样品表面的缺陷密度从18.6/mm2降低到6.2/mm2,且其激光损伤阈值从15.9 J/cm2提高到23.1 J/cm2,样品的平均吸收率从处理前的1.147×10-4降低到处理后的9.56×10-5.通过对处理前后样品的表面微缺陷密度、吸收率及损伤形貌等的分析发现:离子后处理可以降低薄膜的显微缺陷和亚显微缺陷,从而降低薄膜的平均吸收率,同时增强了薄膜与基底的结合力,提高了薄膜的激光损伤阈值.