钼基体上化学气相沉积钨功能涂层的研究

• 作者: 李争显 杜继红 高广睿
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: CVD 钨涂层 性能
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 2013-2016
• 页数: 4页
• 分类号: TG154.5
• 字数: 2505字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2005.12.041

摘要

采用CVD(Chemical Vapor Deposition)法沉积的钨涂层有[100]/[111]/[110]择优取向.择优取向主要受气体组分、流动速度、温度等因素的影响.研究了钼基体上CVD钨涂层的表面形貌和织构、涂层界面的元素分布、涂层的抗热震性能及高温扩散性能.结果显示:钨涂层与基体钼有2μm左右的互扩散层且钼在钨中的扩散速度更高;涂层在通H2条件下,进行室温→1400℃→室温20次循环后涂层不脱落、界面没有明显变化,涂层结合力好;涂层界面上的杂质元素氧等影响涂层的结合性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高广睿		16	118	6.0	10.0
2	李争显		169	1281	19.0	26.0
3	杜继红		102	955	17.0	24.0