Ni修饰层对SnO2薄膜气敏性能影响

• 作者: 杜军 杨志民 毛昌辉 王磊
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SnO2 Ni 薄膜 表面修饰 气体传感器
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 512-516
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3113字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.06.017

摘要

采用磁控溅射技术在SnO2薄膜表面修饰金属Ni,研究Ni修饰量对SnO2薄膜气敏性能影响.对Ni-SnO2薄膜进行表面成分分析,发现Ni的表面含量和化学价态对Ni-SnO2薄膜气敏性能影响至关重要.Ni的表面修饰量在3.4%～8.8%之间将有效提高SnO2薄膜对低浓度氢气的敏感性能.180 ℃工作温度下,表面含Ni 3.4%的SnO2薄膜对1000 ppm的氢气灵敏度最高为59.6,同时响应时间和恢复时间降低至15 s和125 s.Ni修饰量增加到23.4%,薄膜的气敏性能恶化,这是因为修饰层过厚,阻碍气体与SnO2材料接触.同时,XPS证实NiO是增加SnO2薄膜气敏性能的主要物质,增敏机理解释为Ni氧化后形成的NiO在SnO2薄膜上形成p-n结,促进元件的电导变化,从而提高了薄膜的气敏性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜军		75	496	13.0	17.0
2	王磊		38	221	9.0	12.0
3	毛昌辉		60	564	12.0	21.0
4	杨志民		40	363	9.0	17.0