分步式压印光刻研究

• 作者: 丁玉成 刘红忠 卢秉恒 邱志惠
• 来源期刊: 纳米科技
• 学科: 工学
• 关键词: 微纳制造 压印 光刻
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 纳米器件与技术
• 页码范围: 26-29
• 页数: 4页
• 分类号: TP242
• 语种: 中文

摘要

针对微纳制造中光刻环节的光衍射限制,讨论了可能成为下一代光刻技术路线的压印光刻.通过对比热压印、微接触转印及常温压印的技术特点,设计了一套低成本、结构简单的紫外光固化常温压印光刻机构.其大行程纳米级定位、纳米级下压系统消除了压印过程中的机构热变形误差、驱动间隙、蠕动误差等,具有分步式纳米级驱动多场压印及纳米级下压加载能力,可实现多次重复高保真图形复制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢秉恒	西安交通大学先进制造研究所	387	5973	36.0	56.0
2	丁玉成	西安交通大学先进制造研究所	128	1941	23.0	39.0
3	邱志惠	西安交通大学先进制造研究所	20	242	10.0	15.0
4	刘红忠	西安交通大学先进制造研究所	46	349	10.0	16.0