氮分压对电弧离子镀CrNx薄膜结构与性能的影响

• 作者: 刘振东 李国卿 胡远荣 苟伟 钟彬
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: Cr/CrNx薄膜 电弧离子镀 显微硬度 摩擦磨损 腐蚀
• 年，卷（期）: 2006,（z1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 115-118,128
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 2611字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.z1.029

摘要

采用电弧离子镀技术,在不同n2分压下沉积Cr/CrNx薄膜.X射线衍射技术、努氏硬度计和UMT型球-盘摩擦试验机、M342-2型腐蚀测量系统分别测试了薄膜相结构、显微硬度、摩擦磨损和抗腐蚀性能.研究了N2分压对薄膜相组成、硬度、摩擦磨损和抗腐蚀性能的影响.结果表明:随着N2分压的升高,薄膜由Cr2N(211)相过渡到CrN(220)相;薄膜硬度出现两个极值,对应于单相Cr2N和CrN;与钢基体相比,N2分压为0.35 Pa时制备的CrNx薄膜具有良好的耐磨性能和抗腐蚀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘振东	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	4	27	3.0	4.0
2	李国卿	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	58	411	12.0	16.0
3	苟伟	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	9	101	6.0	9.0
4	胡远荣	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	5	72	4.0	5.0
5	钟彬	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	4	73	4.0	4.0