退火对BST薄膜光学特性影响的研究

• 作者: 廖家轩 杨传仁 符春林 赵莉 陈宏伟 高志强
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: BST 退火处理 XRD 光谱
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 单晶、薄膜及其他功能材料
• 页码范围: 67-68,71
• 页数: 3页
• 分类号: TN384
• 字数: 1962字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2006.01.022

摘要

利用射频磁控溅射在硅和石英基片上制备了Ba06Sr0.4TiO3(BST)薄膜.并用气氛炉和快速晶化炉对其进行退火,比较了退火前后的XRD谱和光致发光光谱,结果表明,退火后,氧缺位减少,发光光谱在紫外区的峰位发生红移,在可见光区的峰位却发生蓝移,荧光峰半高宽变窄.同时,透射光谱表明,薄膜的禁带宽度变窄.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨传仁	电子科技大学微电子与固体电子学院	69	525	11.0	18.0
2	陈宏伟	电子科技大学微电子与固体电子学院	51	360	10.0	15.0
3	廖家轩	电子科技大学微电子与固体电子学院	22	106	7.0	8.0
4	符春林	电子科技大学微电子与固体电子学院	19	239	10.0	15.0
5	赵莉	电子科技大学微电子与固体电子学院	6	54	5.0	6.0
6	高志强	电子科技大学微电子与固体电子学院	6	54	5.0	6.0