过渡层对含氢非晶碳膜生长的影响

• 作者: 巴德纯 蔺增
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 含氢非晶碳膜 过渡层 膜基结合力
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 491-493
• 页数: 3页
• 分类号: TB79
• 字数: 2219字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.06.012

摘要

本文利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)工艺在不锈钢基底上制备了含氢非晶碳膜(a-C∶H膜).在沉积碳膜之前,首先在基底表面预先沉积了Ti/TiC、Ti/TiN和Ti/TiN/TiC等过渡层以提高膜基结合力.利用激光Raman光谱分析了过渡层对a-C∶H膜生长过程及膜中sp3含量的影响.实验结果表明,采用Ti/TiN/TiC过渡层时所制备的a-C∶H膜中sp3含量最多,同时膜基结合力最大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯		250	1491	18.0	22.0
2	蔺增		40	160	7.0	9.0