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制备工艺条件对薄膜微结构的影响
制备工艺条件对薄膜微结构的影响
作者:
沈健
田光磊
申雁鸣
范正修
邵建达
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
薄膜
X射线衍射
晶相结构
迁移率
扩散激活能
摘要:
用不同的方法在石英玻璃,YAG晶体,K9玻璃和LiNbO3晶体等几种衬底上制备了ZrO2,HfO2和TiO2薄膜.HfO2薄膜利用电子束蒸发(EB)、离子束辅助(IAD)和双束离子束溅射(DIBS)三种方法沉积.对其中的一些样品进行了不同温度下的退火处理,对所有的样品进行X射线衍射(XRD)测试,以获得不同条件下得到的薄膜的晶相及晶粒尺寸等的微结构参数.实验结果表明,薄膜的晶相结构以及晶粒尺寸强烈地依赖于沉积过程的各种技术参数,如衬底的种类、沉积温度、沉积方法和退火温度.利用薄膜表面扩散以及薄膜成核长大热力学原理解释了不同技术条件下的晶相结构和晶粒尺寸不同的原因.
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文献信息
篇名
制备工艺条件对薄膜微结构的影响
来源期刊
中国激光
学科
物理学
关键词
薄膜
X射线衍射
晶相结构
迁移率
扩散激活能
年,卷(期)
2006,(5)
所属期刊栏目
薄膜
研究方向
页码范围
673-678
页数
6页
分类号
O484.4
字数
4422字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0258-7025.2006.05.021
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
邵建达
中国科学院上海光学精密机械研究所
212
2131
21.0
29.0
2
范正修
中国科学院上海光学精密机械研究所
203
2312
23.0
32.0
3
田光磊
中国科学院上海光学精密机械研究所
6
87
5.0
6.0
7
申雁鸣
中国科学院上海光学精密机械研究所
6
95
5.0
6.0
11
沈健
中国科学院上海光学精密机械研究所
10
113
8.0
10.0
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(33)
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参考文献(2)
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2005(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2006(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
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二级引证文献(0)
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引证文献(2)
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引证文献(4)
二级引证文献(0)
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引证文献(2)
二级引证文献(1)
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引证文献(2)
二级引证文献(9)
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二级引证文献(6)
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研究主题发展历程
节点文献
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X射线衍射
晶相结构
迁移率
扩散激活能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国激光
主办单位:
中国光学学会
中科院上海光机所
出版周期:
月刊
ISSN:
0258-7025
CN:
31-1339/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号 上海800-211邮政信箱
邮发代号:
4-201
创刊时间:
1974
语种:
chi
出版文献量(篇)
9993
总下载数(次)
26
总被引数(次)
105193
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