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晶体管栅介质物理、工艺和特性表征技术的演变

晶体管栅介质物理、工艺和特性表征技术的演变

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文献信息

篇名	晶体管栅介质物理、工艺和特性表征技术的演变
来源期刊	集成电路应用	学科	工学
关键词
年，卷（期）	2006,（11）	所属期刊栏目	工艺与制造
研究方向		页码范围	31-34
页数	4页	分类号	TN4
字数	4474字	语种	中文
DOI	10.3969/j.issn.1674-2583.2006.11.014

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月刊

1674-2583

31-1325/TN

16开

上海宜山路810号

1984

chi

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4823

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15

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