中频反应磁控溅射制备Al2O3:Ce3+薄膜的蓝色发光特性

• 作者: 刘斯明 巴德纯 廖国进 闻立时 阎绍峰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光致发光 Al2O3 薄膜 Ce
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 421-424
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2082字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.05.018

摘要

本文用中频反应磁控溅射技术制备了Al2O3:Ce3+的非晶薄膜.这些薄膜的光致发光峰是在370 nm到405 nm范围内,它们来自于Ce3+的5d1激发态向基态4f1的两个劈裂能级的跃迁.发光强度强烈的依赖于薄膜中的掺杂浓度和沉积时的基片温度.Ce3+含量和薄膜的化学成分是通过X射线散射能谱(EDS)测量的.薄膜发光是来自于氯化铈分子中的发光中心,而不是其他的掺杂Ce3+.随铈含量增加5d与4f之间的能量差减小,导致随铈含量增加光致发光峰向低能方向的移动.薄膜试样的晶体结构应用X射线衍射分析.俄歇电子谱用于对薄膜材料的化学组分进行定性分析.发射纯蓝光的Al2O3:Ce3+非晶薄膜在平板显示等领域有着广泛的潜在应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯	东北大学机械与自动化学院	250	1491	18.0	22.0
2	廖国进	东北大学机械与自动化学院	19	89	5.0	9.0
4	闻立时	中国科学院金属研究所表面工程部	117	1859	24.0	36.0
5	刘斯明	北京航空航天大学机械与自动化学院	18	309	8.0	17.0
8	阎绍峰	辽宁工学院机械与自动化学院	14	56	4.0	7.0