脉冲激光和磁控溅射沉积Mo薄膜研究

• 作者: 任大鹏 吕学超 张厚量 张延志 张永彬 郎定木
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光 磁控溅射沉积 薄膜 MO 标准材料 物理气相沉积 加载实验 阻抗匹配
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 155-156
• 页数: 2页
• 分类号: O484

摘要

实验用于高能量驱动的一种靶目前主要是Me-Mo阻抗匹配靶，即用已知高压状态方程数据的Mo标准材料与未知的待测材料Me相匹配成微靶，通过激光加载实验并计算Me材料的p（V）曲线，近而获取Me的状态方程数据。目前，微米级厚的Mo薄膜可以通过机械（化学）抛光的方法获得，但过程可控性不强，终态薄膜的有效使用面积小。另一种途径是采用物理气相沉积（PVD）制备Mo薄膜。