高温氨刻蚀对硅基纳米铁薄膜显微形态的影响

• 作者: 刘华平 梁昌林 程国安 赵勇 郑瑞廷
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 铁纳米薄膜 氨刻蚀 显微形态
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 页码范围: 451-455,460
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 2884字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.004

摘要

本文研究了750℃高温氨刻蚀对硅基铁纳米薄膜显微形态变化的影响.找到了纳米铁颗粒平均直径和平均分布密度随刻蚀时间、薄膜厚度等参数变化的规律,并对氨在其变化过程中的作用机制进行了初步探讨.研究发现: 5～10nm的薄膜原始厚度和8～12min的刻蚀时间是硅基铁纳米薄膜催化高定向碳纳米管阵列化学气相沉积生长的较理想条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵勇	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学材料科学与工程系	194	973	18.0	27.0
5	程国安	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学材料科学与工程系	28	204	9.0	13.0
6	郑瑞廷	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学材料科学与工程系	15	119	6.0	10.0
7	刘华平	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学材料科学与工程系	2	41	1.0	2.0