连续扫描光刻技术

• 作者: 周礼书 杨春林 温圣林
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻技术 连续扫描 加工区域 制作成本 定位装置 精密检测 相对精度 定位系统
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 165-166
• 页数: 2页
• 分类号: TN305.7

摘要

扫描光刻技术是目前实现大口径压缩光栅等位相元件制作的一种有效方案，该技术考虑到大尺寸加工的困难，采用先小尺寸加工，然后连续扫描扩大加工区域的方法，既能保证大尺寸加工和较高精度，又能降低设备制作成本和难度，具有明显的优越性。扫描光刻技术中需要发展超精密检测和超精密定位装置以保证移动光刻过程能够得到精密的控制，特别是10^-6级的相对精度的控制。图1显示了XY超精密平台的测量定位系统。