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PLD法生长高质量ZnO薄膜及其光电导特性研究
PLD法生长高质量ZnO薄膜及其光电导特性研究
作者:
于伟东
李效民
赵俊亮
边继明
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
ZnO薄膜
脉冲激光沉积
光电导紫外探测器
光电响应机理
摘要:
采用脉冲激光沉积(PLD)法在单晶Si(100)衬底上生长ZnO薄膜,以X射线衍射(XRD)和场发射扫描电镜(SEM)等手段分析了所得ZnO薄膜的晶体结构和微观形貌.结果表明,随着衬底温度和薄膜生长时氧分压的增加,ZnO薄膜的晶体结构和化学计量比得到显著改善.优化工艺(700℃,20Pa)下生长的ZnO薄膜呈c轴高度择优取向,柱状晶垂直衬底表面生长,结构致密均匀.以不同暗电阻的ZnO薄膜为材料,利用剥离(lift-off)技术制备了MSM结构ZnO光电导型紫外探测器.紫外光照射前后的I-V特性测试表明ZnO薄膜产生非常明显的光电导现象,分析了其光电响应机理.
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磁控溅射
ZnO薄膜
X射线衍射仪
原子力显微镜
沉积温度对ZnO薄膜波导的PLD生长影响的实验研究
脉冲激光沉积技术(PLD)
X射线衍射仪(XRD)
半高宽度(FWHM)
提拉法生长高质量氟化镁单晶
氟化镁单晶
提拉法
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内容分析
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文献信息
篇名
PLD法生长高质量ZnO薄膜及其光电导特性研究
来源期刊
无机材料学报
学科
工学
关键词
ZnO薄膜
脉冲激光沉积
光电导紫外探测器
光电响应机理
年,卷(期)
2006,(3)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
701-706
页数
6页
分类号
TN957
字数
3250字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-324X.2006.03.030
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李效民
中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室
24
197
10.0
13.0
2
边继明
中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室
2
34
2.0
2.0
6
于伟东
中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室
18
118
7.0
10.0
7
赵俊亮
中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室
1
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二级引证文献(0)
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引证文献(1)
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO薄膜
脉冲激光沉积
光电导紫外探测器
光电响应机理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
无机材料学报
主办单位:
中国科学院上海硅酸盐研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-324X
CN:
31-1363/TQ
开本:
16开
出版地:
上海市定西路1295号
邮发代号:
4-504
创刊时间:
1986
语种:
chi
出版文献量(篇)
4760
总下载数(次)
8
总被引数(次)
61689
期刊文献
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