制备高质量ZnO光电薄膜的关键技术

• 作者: 丁瑞钦
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子技术 ZnO薄膜 综述 缓冲层 氢钝化 表面化学处理
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 46-49
• 页数: 4页
• 分类号: O472.3
• 字数: 5162字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2005.12.016

摘要

提高ZnO薄膜的质量,使之适应制备光电器件的要求,是目前ZnO薄膜研究的一个主要问题.在对近年来人们在ZnO薄膜的制备上所作的工作进行调研的基础上,总结出对提高薄膜的质量有普遍参考价值的三种关键技术:"缓冲层","氢钝化"和"表面化学处理".对三种关键技术的主要内容,及其在提高薄膜结晶质量与光电性能方面的效果和物理机制,作了较详细的介绍.并对这些技术提出了自己的一些见解.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁瑞钦	五邑大学薄膜与纳米材料研究所	29	115	6.0	9.0