常压化学气相沉积技术生长ZnO:H薄膜的光学性质

• 作者: 戴江南 方文卿 李璠 江风益 王立 蒲勇
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜光学 氧化锌 氢 常压金属有机物化学气相沉积 光致发光
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1585-1588
• 页数: 4页
• 分类号: O47
• 字数: 2108字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2006.10.029

摘要

采用常压金属有机物化学气相沉积技术(AP-MOCVD),以二乙基锌(DEZn)为Zn源,去离子水(H2O)为氧源,N2作载气,在外延ZnO薄膜的反应气氛中通入少量氢气,在c-Al2O3衬底上生长出了ZnO:H薄膜.用X射线双晶衍射和光致发光谱对ZnO:H薄膜的结晶性能和光学性质进行表征.结果表明,ZnO:H薄膜(002)和(102)面的Ω扫描半峰全宽分别为46.1 mrad和81.4 mrad,表明该薄膜具有良好的结晶性能;室温下,ZnO:H薄膜具有较强的紫外光发射(380 nm),在低温10 K光致发光谱中观测到位于3.3630 eV处与氢相关的中性施主束缚激子峰(I4)及其位于3.331 eV处的双电子卫星峰(TES).采用退火的方法,通过观测I4峰的强度变化,研究了氢在ZnO:H薄膜中的热稳定性.发现随着退火温度的升高,I4峰的强度逐渐减弱,表明在高温下退火,氢会从ZnO薄膜中逸出.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方文卿	南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心	23	200	8.0	13.0
2	王立	南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心	48	324	10.0	14.0
3	江风益	南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心	60	527	12.0	19.0
4	戴江南	南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心	10	86	5.0	9.0
5	蒲勇	南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心	15	108	6.0	10.0
6	李璠	南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心	15	100	5.0	9.0