磁约束反应离子蚀刻装置的磁场优化

• 作者: 姚若河 敬小成 林玉树
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 反应离子蚀刻 磁约束 等离子体装置
• 年，卷（期）: 2006,（z1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 422-425
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 2572字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.z1.105

摘要

应用有限元分析方法建立了多磁极约束磁增强型反应离子蚀刻装置内部的磁场分布模型.通过研究磁极的配置及磁化方向的调整,对蚀刻装置内部磁场的强度及其分布的均匀性进行了优化研究,获得了在兼顾蚀刻速率和蚀刻均匀性的最优工艺要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚若河	华南理工大学物理科学与技术学院	126	611	11.0	18.0
2	敬小成	华南理工大学物理科学与技术学院	4	13	2.0	3.0
3	林玉树	华南理工大学物理科学与技术学院	2	3	1.0	1.0