锗预非晶化注入对镍硅(NiSi)金属栅功函数的影响研究

• 作者: 单晓楠 周发龙 王阳元 蔡一茂 黄如
• 来源期刊: 电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金属栅 镍硅金属栅 功函数 超浅结 锗预非晶化
• 年，卷（期）: 2006,（8）
• 所属期刊栏目: 科研通信
• 页码范围: 1534-1536
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.3
• 字数: 1784字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0372-2112.2006.08.036

摘要

随着超大规模集成电路技术的发展,CMOS器件的制备过程需要同时引入金属栅和超浅结等新的先进工艺技术,因此各种新工艺的兼容性研究具有重要意义.本文研究了超浅结工艺中使用的锗预非晶化对镍硅(NiSi)金属栅功函数的影响.对具有不同剂量Ge注入的NiSi金属栅MOS电容样品的研究表明,锗预非晶化采用的Ge注入对NiSi金属栅的功函数影响很小(小于0.03eV),而且Ge注入也不会导致氧化层中固定电荷以及氧化层和硅衬底之间界面态的增加.这些结果表明,在自对准的先进CMOS工艺中,NiSi金属栅工艺和锗预非晶化超浅结工艺可以互相兼容.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄如	北京大学微电子学院	87	413	9.0	17.0
2	王阳元	北京大学微电子学院	78	1128	15.0	32.0
3	周发龙	北京大学微电子学院	3	7	2.0	2.0
4	蔡一茂	北京大学微电子学院	3	5	2.0	2.0
5	单晓楠	北京大学微电子学院	2	5	2.0	2.0