牺牲层刻蚀实验的在线观察与研究

• 作者: 乔大勇 梁庆 苑伟政 虞益挺
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 微机电系统 牺牲层 刻蚀速率
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 精密测量
• 页码范围: 169-172
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 2408字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2007.03.003

摘要

设计了多种测试结构,采用在线实时观测的手段,深入研究了氢氟酸(HF)刻蚀二氧化硅牺牲层中,多种因素对刻蚀过程产生的影响,并对实验结果进行了详细分析.实验中可以明显观察到刻蚀过程中的反应限制阶段与扩散限制阶段,说明经过长时间的刻蚀,HF酸的扩散效应将成为影响刻蚀速率的主导因素.对于实验过程中观察到的"凹"状的刻蚀前端和"晕纹"现象,分析认为结构中的应力梯度以及材料间不同的亲水性质是产生这些现象的主要原因.实验方法与结论对MEMS牺牲层释放工艺的研究具有一定的参考意义.