射频磁控溅射法制备PI基CeO2-TiO2复合薄膜

• 作者: 刘晓燕 张松利 赵玉涛
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: CeO2-TiO2复合薄膜 PI 微观形貌 透光率 附着力
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 1068-1072
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 3140字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1625.2007.06.005

摘要

采用射频磁控溅射技术在柔性基体PI(聚酰亚胺)上制备了纳米CeO2-TiO2复合薄膜.借助X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见光谱仪分别研究了薄膜的物相结构、表面生长形貌和薄膜的紫外-可见光透过率及光学能隙,并用WS-2000型薄膜划痕仪测定薄膜与基体的界面结合强度.实验结果表明:沉积态的薄膜为非晶态,经200℃退火处理4h后,转化为良好的晶态,薄膜中主要含有锐钛矿相结构;溅射功率对薄膜的形貌,光学性能及界面结合力均有影响.尤其当溅射功率为120W时,薄膜的综合性能最优;平均晶粒尺寸110nm,表面粗糙度为160nm,吸光率达80%,光学能隙Eg仅为(2.65±0.05)eV,划痕法测量涂层与基体的附着力为60N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵玉涛	江苏大学材料科学与工程学院	220	1580	20.0	26.0
2	张松利	江苏大学材料科学与工程学院	25	163	8.0	11.0
3	刘晓燕	江苏大学材料科学与工程学院	4	13	3.0	3.0