室温下制备的ZnO/Ag/ZnO多层膜的性能

• 作者: 孙学卿 李俊 胡振彦 闫金良
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 复合材料 磁控溅射 多层膜 光电性质
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 41-43
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2395字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2007.11.013

摘要

采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Ag靶的方法在室温下制备了不同厚度的ZnO/Ag/ZnO多层膜.对样品进行了研究.结果表明:随着Ag层厚度的增加,ZnO(002)衍射峰的强度先增加后减小,Ag(111)衍射峰的强度增强,ZnO/Ag/ZnO多层膜的面电阻先减小后趋于稳定.ZnO膜厚度增加,Ag膜易形成晶状结构,ZnO/Ag/ZnO多层膜的透射峰向长波方向移动.ZnO(60 nm)/Ag(11 nm)/ZnO(60 nm)膜在554 nm处的透过率高达92.3%,面电阻为4.2 Ω/□,品质常数ψГC最佳,约40×10-3/Ω.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李俊	鲁东大学物理与电子工程学院	6	46	4.0	6.0
2	闫金良	鲁东大学物理与电子工程学院	25	100	5.0	8.0
3	胡振彦	鲁东大学物理与电子工程学院	3	9	2.0	3.0
4	孙学卿	鲁东大学物理与电子工程学院	6	39	4.0	6.0