ZnO/Ag/ZnO多层膜的制备和性质研究

• 作者: 于芬 李俊 李科伟 杨春秀 闫金良
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体技术 透明导电膜 多层膜 光学性质 电学性质
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 52-54
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.2
• 字数: 1641字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2007.03.018

摘要

采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶和直流磁控溅射Ag靶的方法制备了ZnO/Ag/ZnO多层膜.用X射线衍射仪、紫外–可见分光光度计、四探针测试仪和金相显微镜对ZnO/Ag/ZnO薄膜的结构、光学透过率、方阻和稳定性进行了研究.结果表明,ZnO(60 nm)/Ag/(10 nm)/ZnO(60 nm)薄膜呈现多晶结构,薄膜在520 nm处的光学透过率高达87.5 %,方阻Rs为6.2 Ω/□.随着顶层ZnO薄膜厚度的增加,ZnO/Ag/ZnO薄膜的稳定性提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李俊	鲁东大学物理与电子工程学院	6	46	4.0	6.0
2	闫金良	鲁东大学物理与电子工程学院	25	100	5.0	8.0
3	李科伟	鲁东大学物理与电子工程学院	4	39	3.0	4.0
4	杨春秀	鲁东大学物理与电子工程学院	5	40	3.0	5.0
5	于芬	鲁东大学物理与电子工程学院	2	15	1.0	2.0