CN1944559一种碱性硅晶片抛光液

• 来源期刊: 磨料磨具通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 抛光液 硅晶片 碱性 PH调节剂 表面活性剂 PH值 磨料
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 页码范围: 37
• 页数: 1页
• 分类号: TG175

摘要

一种碱性硅晶片抛光液，它的pH值范围为8-13，粒径为15nm-150nm，它是由磨料、pH调节剂、表面活性剂和水混合组成，其中磨料占10％-50％．pH调节剂占1％-6％，表面活性剂占0．01％-0.6％，