为提高化学机械抛光的加工效果,我们研究了 pH 值、氧化剂种类和氧化剂含量对材料去除率和表面粗糙度的影响。结果表明:不同氧化剂的抛光液在各自的最佳 pH 值时达到最大的材料去除率,分别为181 nm/min(H 2 O 2抛光液,pH=9),177 nm/min(Cr2 O 3抛光液,pH=11),172 nm/min(Na2 Cr2 O 7抛光液,pH=11)和147 nm/min(NaClO 抛光液,pH=13);抛光液中氧化剂含量、pH 值对抛光后不锈钢的表面粗糙度影响较小。其中,材料去除率较高的H 2 O 2和Cr2 O 3可作为304不锈钢化学机械抛光碱性抛光液的氧化剂。