化学机械抛光液的发展现状与研究方向

• 作者: 夏琳 彭进 邹文俊
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光液 二氧化硅 二氧化铈 氧化铝 纳米金刚石
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 综述·专论
• 页码范围: 95-98
• 页数: 4页
• 分类号: TG175
• 字数: 5707字
• 语种: 中文

摘要

简述了化学机械抛光液的主要成分及其作用;综述了近年来国内外化学机械抛光液的发展现状,主要介绍了二氧化硅胶体抛光液、二氧化铈抛光液、氧化铝抛光液、纳米金刚石抛光液.最后指出,化学机械抛光液未来应向环保化、精细化以及专门化的方向发展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹文俊	河南工业大学材料科学与工程学院	103	688	14.0	19.0
2	彭进	河南工业大学材料科学与工程学院	94	550	12.0	18.0
3	夏琳	河南工业大学材料科学与工程学院	4	18	3.0	4.0