纳米氧化铈抛光液对钌的化学机械抛光

• 作者: 储向峰 孙文起 张王兵 王婕 董永平
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: CeO2 钌 化学机械抛光 分散剂
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 页码范围: 60-64
• 分类号: TG175.3|TN305.2
• 语种: 中文

摘要

采用液相沉淀法制备了纳米CeO2磨料,利用X射线衍射(XRD)表征其物相组成.通过纳米粒度仪研究了分散剂种类、热处理温度对CeO2磨料制备的悬浮液的粒径分布和Zeta电势的影响.用由CeO2磨料制备的抛光液对钌进行化学机械抛光,采用原子力显微镜观察钌片表面的微观形貌.结果表明:制备的粉体是具有立方萤石型结构的纳米CeO2,其晶粒尺寸随热处理温度的升高而增大；CeO2磨料在以六偏磷酸钠(SHMP)作为分散剂的悬浮液中分散效果最好；在抛光压力为6.9 kPa,抛光台转速为50 r/min,抛光液流量为50 mL/min,抛光液pH值为10.0,抛光液主要组成(质量分数)为1％ CeO2,1％(NH4)2S2O8,0.01％ SHMP的条件下,钌的抛光速率达到9.0 nm/min,表面粗糙度Ra值为2.2 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	储向峰	安徽工业大学化学化工学院	59	209	6.0	11.0
2	董永平	安徽工业大学化学化工学院	45	183	7.0	11.0
3	张王兵	安徽工业大学化学化工学院	23	112	6.0	9.0
4	孙文起	安徽工业大学化学化工学院	15	45	3.0	6.0
5	王婕	安徽工业大学化学化工学院	4	18	2.0	4.0