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摘要:
在半绝缘的InP衬底上采用分子束外延的方法生长制备了不同势垒厚度的RTD材料样品,室温下测量的最高峰-谷电流比为18.39.通过模拟得到RTD直流特性与势垒厚度、势阱材料及厚度、隔离层厚度以及掺杂浓度间的关系,对结果进行了分析与讨论.
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文献信息
篇名 高性能InGaAs/AlAs共振隧穿二极管的研制与器件模拟分析
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 共振隧穿二极管 峰-谷电流比 电流-电压特性 器件模拟
年,卷(期) 2007,(4) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 563-566
页数 4页 分类号 TN31
字数 1954字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.04.017
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 曾一平 中国科学院半导体研究所 85 439 11.0 16.0
2 张杨 中国科学院半导体研究所 43 179 7.0 12.0
3 马龙 中国科学院半导体研究所 50 495 14.0 21.0
4 王良臣 中国科学院半导体研究所 31 192 8.0 13.0
5 杨富华 中国科学院半导体研究所 49 227 9.0 14.0
6 戴扬 中国科学院半导体研究所 2 5 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
共振隧穿二极管
峰-谷电流比
电流-电压特性
器件模拟
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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