温度对飞秒激光沉积ZnO/Si薄膜的结构和性能的影响

• 作者: 戴能利 杨义发 杨光 郑启光 陆培祥 龙华
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 ZnO薄膜 飞秒激光沉积 纳米晶结构
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1282-1286
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3433字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2007.09.026

摘要

通过飞秒脉冲激光(50 fs,800 nm,1 kHz,2 mJ)沉积技术在n型Si(100)单晶基片上制备了ZnO薄膜.详细研究了基片温度变化以及退火处理对ZnO薄膜的结构、表面形貌及光学性质的影响.X射线衍射(XRD)结果表明,不同温度下(20～350℃)生长的ZnO薄膜具有纤锌矿结构,并且呈c轴择优取向;当基片温度为80℃时,薄膜沿(002)晶面高度择优生长;当基片温度为500℃时薄膜沿(103)晶面择优生长,场发射扫描电子显微镜(FEEM)结果表明薄膜呈纳米晶结构,并观察到了ZnO的六方结构.进一步通过透射光谱的测量讨论了基片温度及退火处理对ZnO薄膜光学透射率的影响,结果表明退火后薄膜的透射率增大.