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摘要:
利用分子束外延技术研制出InP基IhAs/In0.53Ga0.47As/AlAs共振隧穿二极管,其中势垒为10个单分子AlAs,势阱由8个单分子层In0.53Ga0.47As阱和4个单分子层InAs子阱组成.室温下峰值电流密度接近3kA/cm2,峰和谷的电流密度比率达到19.
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文献信息
篇名 纳米电子器件-高峰值峰谷电流比InP基共振隧穿二极管的实现
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 共振隧穿二极管 InP基 分子束外延
年,卷(期) 2007,(z1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 41-43
页数 3页 分类号 TN31
字数 697字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.z1.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 曾一平 中国科学院半导体研究所材料科学中心 85 439 11.0 16.0
2 张杨 中国科学院半导体研究所材料科学中心 43 179 7.0 12.0
3 马龙 中国科学院半导体研究所材料科学中心 50 495 14.0 21.0
4 王良臣 中国科学院半导体研究所材料科学中心 31 192 8.0 13.0
5 杨富华 中国科学院半导体研究所材料科学中心 49 227 9.0 14.0
6 王保强 中国科学院半导体研究所材料科学中心 3 12 1.0 3.0
7 朱战平 中国科学院半导体研究所材料科学中心 3 2 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
共振隧穿二极管
InP基
分子束外延
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
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8
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