磁控溅射Wox-Ti(Mo,Ni,V)薄膜的电致变色性能

• 作者: 徐爱娇 蔡明 黄佳木
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: WOx 薄膜 电致变色 掺杂 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 144-146,154
• 页数: 4页
• 分类号: TB34|O484
• 字数: 3426字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2007.04.037

摘要

采用反应磁控溅射工艺分别制备掺杂Ti、Mo、Ni、V的WOx薄膜,研究了掺杂对其电致变色性能的影响机理.实验结果表明,适量的掺杂可以提高薄膜的电致变色性能,Mo的掺杂可以调节光谱吸收范围,Ni、V的掺杂可以提高记忆存储能力,Ti的掺杂可以延长循环寿命;磁控溅射制备的掺杂WOx薄膜均为非晶态.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄佳木	重庆大学材料科学与工程学院	84	690	13.0	20.0
2	徐爱娇	重庆大学材料科学与工程学院	3	14	3.0	3.0
3	蔡明	重庆大学材料科学与工程学院	6	112	5.0	6.0