薄膜厚度对ZnO:Zr透明导电薄膜光电性能的影响

• 作者: 刘汉法 张化福 类成新 袁长坤
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO Zr 透明导电薄膜 磁控溅射 薄膜厚度 光电性能
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 707-710
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.2|O484
• 字数: 1724字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2008.06.013

摘要

利用射频磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的ZnO:Zr透明导电薄膜.讨论了厚度对ZnO:Zr透明导电薄膜光学、电学性能的影响.当薄膜厚度为213 nm时,薄膜电阻率达到最小值1.81×10-3 Ω·cm.所制备的薄膜样品都具有高透光率,其可见光区平均透过率超过了93.0%.当薄膜厚度从125 nm增加到350 nm时,薄膜的光学带隙从3.58 eV减小到3.50 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘汉法	山东理工大学物理与光电信息技术学院	57	316	11.0	13.0
2	张化福	山东理工大学物理与光电信息技术学院	52	292	11.0	13.0
3	类成新	山东理工大学物理与光电信息技术学院	48	201	8.0	10.0
4	袁长坤	山东理工大学物理与光电信息技术学院	23	126	6.0	10.0